<small id='3cmo6'></small><noframes id='3cmo6'>
<tbody id='3cmo6'></tbody>
<bdo id='3cmo6'></bdo><ul id='3cmo6'></ul>
濺射靶材主要用于真空鍍膜設備中，通過物理氣相沉積（PVD）在基片上涂覆薄膜層，以增加新的功能或創建微小的連接，如薄膜晶體管（TFT）。用于制備濺射靶材的材料種類繁多，主要取決于最終的用途，因此既可以由純金屬制成，也可以由非常復雜的合金材料制成。先導薄膜材(cai)料為各行業客戶提供不同材(cai)料所制(zhi)成的平面靶材(cai)和旋轉(zhuan)靶材(cai)，我們的制(zhi)備(bei)技術先進(jin)，保證產品達到(dao)最佳的使用性能。
m.4mmm.cn
m.szboil.cn
m.xydbtx.cn
m.0571office.cn
m.tanhefa.cn
CN
EN
掃描矚目我們都