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濺射靶材主要用于真空鍍膜設備中，通過物理氣相沉積（PVD）在基片上涂覆薄膜層，以增加新的功能或創建微小的連接，如薄膜晶體管（TFT）。
用于制備濺射靶材的材料種類繁多，主要取決于最終的用途，因此既可以由純金屬制成，也可以由非常復雜的合金材料制成。
先(xian)導薄膜材料為各行業客戶提供(gong)不同材料所制(zhi)成的平(ping)面(mian)靶(ba)材和旋轉靶(ba)材，我們(men)的制(zhi)備(bei)技術(shu)先(xian)進，保證(zheng)產品達到(dao)最(zui)佳的使用性(xing)能。
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