鎳靶可按照真空度濺射變成膜層，用在磁數據庫媒介、半導體芯片、LED等服務業電子元件鍍膜等等。

無素標志:Ni
純凈度:4N+
形式:單面靶；補償器靶
銅網外觀:銀白色金屬件
典例孔隙率:8.94g/cm3
常規外形尺寸:單面靶: 2400x500x30mm
翻轉靶: L3000mm
其他一些尺寸大小可定制網站


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